Unity中的Lightmap烘焙速度一直是经常被人吐槽的一个问题，一个极其简单的小场景使用默认参数时烘焙都要几分钟，而大场景往往要烘几个小时甚至十几小时。
不过Unity的烘焙系统有提供许多可调参数，通过合理调整这些参数能够显著加快烘焙速度。
1.调节Indirect Resolution
这个参数影响的是光照图中间接光的质量，并不会影响最后出图的阴影效果。而这个参数对于效果的影响不大，一般情况下无需调到太高值，在保证间接光质量OK的情况下尽量调小这个值即可。
2.调节Lightmap Resolution
降低这个值可以直接减少烘焙时间以及lightmap占用内存，能直接影响最后Lightmap的像素密度而质量降低的代价以阴影质量的降低最为显著。一般建议设为Indirect
Resolution的10倍大小。而且这个值越小，最后烘焙的光照图也越小，能够起到节省内存的效果。
另外，对于某些面积较大，或离得较远，不需要很高精度阴影的模型，也可以对它的光照图分辨率进行单独修改，修改位置在Mesh Renderer组件中。
3.调节烘焙模型的数量
减少需要参与烘焙的物体数量，很多细碎的物体并不需要很精确的间接光照效果，而且也可能根本没有足够的光照贴图精度来对应这些细碎物体。
我们可以让重要的物体参与烘焙，而一些不重要的小物体就交给光照探头来解决。极端需求下可以全场景使用光照探头着色。这样就能节省很大一部分内存。
4.调节Reflection Resolution
降低Reflection Probe以及Environment
Reflections的分辨率。减少烘焙时间的同时极大降低内存占用。一般建议不要超过256，可以先设置为64，然后再根据效果适当往上调整。
5.减少Realtime UV Charts的数量
这里说的UV Charts不是最终lightmap的UV Charts，而是烘焙过程中生成的间接光Lightmap的UV
Charts。这一点可以通过Mesh Renderer组件上的Optimize Realtime UV选项进行优化。
对于那些明显UV Charts太散的Mesh Renderer，我们可以通过勾选Mesh Renderer组件上的Optimize Realtime
UVS后调整Max Distance和Max Angle进行修正。
6.控制Cluster的密度
在工程文件夹里新建一个Lightmap
Parameters，里面会有一些新的参数Cluster，它的分块数量影响着烘焙的速度。我们甚至可以直接调整它的分辨率。
我们可以通过Scene view中的Clustering模式来可视化Cluster的分布情况，一般来说，这个值可以取0.3-0.6之间。
通过以上所述手段我们尽可能把烘焙的时间流程缩短后，可能会发现某些地方的烘焙质量不够。从原则上来说，速度与质量是两个对立的东西。速度越快质量越差是个不可违背的自然规律。
