彭博社的最新报道，预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机（属于DUV光刻机）的出口，该设备对制造尖端芯片至关重要。
DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。
目前浸没式光刻机可以被用于16nm至5nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，一旦浸没式光刻机被加入限制，则意味着中国自45nm及以下成熟制程芯片的生产可能也将受到影响。不过，从美国新规来看，主要限制的是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，因此可能会限制主要应用于先进制程的浸没式光刻机的部分型号的对华出口，部分主要应用于成熟制程的浸没式光刻机型号的许可申请可能会开放。
根据ASML 先前公布的年度财报显示，中国大陆市场占该公司 年营收的15% 左右。虽然ASML此前表示，未受美国新规影响，可以继续向中国大陆销售所有非EUV光刻机设备。但是如果荷兰政府跟进美国新规，那么ASML将受较大影响。
ASML CEO Peter Wennink（彼得·温宁克） 在25日接受采访时表示，美国主导的针对中国的半导体出口管制措施，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术。
温宁克表示，中国的半导体公司“必须参与全球竞争”，所以他们才想购买非中国制造的设备，“如果无法得到这些机器，他们就会自己研发。这需要时间，但最终他们会实现目标”。温宁克表示，“中国的‘物理定律’和这里的一样，你越给他们施加压力，他们越有可能加倍努力”，以制造能够与ASML敌的光刻设备。
在谈到美国出口管制措施的负面影响时，温宁克此前曾表示，美国去年10月宣布的人员限制措施“给个人和公司带来各种各样的问题”，“这绝对不是一件值得高兴的事情”。他表示，总体而言，出口管制将“造成一定程度的混乱”，“这将影响效率和创新，并影响到我们所有人”。
温宁克还警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。“芯片可用性可能会减少，可能是由于出口管制走得太远，这也意味着我们将拥有效率较低的基础设施，成本很可能会上升。”
除了荷兰ASML受影响之外，荷兰的另一大半导体设备厂商ASMI预计也将会进一步受到负面影响。此前ASMI就曾表示，其第三季度订单受美国对华出口管制新规影响。ASMI 预计，新规将影响其在中国大陆40% 以上的销售额，因此该集团决定减少第三季度的订单和相关积压订单。
此外，随着日本跟进美国对华半导体新规，也将对日本半导体厂商，例如东京电子、尼康等设置类似的限制。日本半导体设备大厂东京电子之前也曾表示，美国10月7日才公布的新规就直接导致了东京电子财年（截至3月）来自中国大陆的营收目标减少了1250亿日元（约合人民币63.1亿元）。如果看其的整体营收，对比财年，预计将会受到更大影响。此前资料显示，在自然年度，东京电子来自中国大陆的营收占比最高，达到了27.5%。除了东京电子、尼康之外，爱德万、迪恩士、日立高科、迪斯科（DISCO）等日本知名的半导体设备大厂预计也将受到影响。
对于彭博社的最新报道，美国白宫国家安全委员会发言人没有立即回应置评请求。荷兰贸易部发言人拒绝置评。
