在美国对华为的制裁浪潮中，以芯片为代表的高端产品就一直是我们关注的焦点。芯片难造吗？中国为什么会担心芯片行业的制裁？这样的疑问，近来常伴随着中美贸易战大大小小的新闻，被网友们提起。要解开这些疑问，我们就要先来了解生产芯片的核心设备——光刻机。
首先要指出，美国商务部昨天一个新规、今天一个新规的，威胁到的主要是芯片的生产和进口渠道。以华为、中兴为代表的我国电信公司，其芯片设计技术并不落后，华为的5G SoC芯片方案甚至超过了欧美国家研发的步伐。但是他们需要代工厂的帮助才能造出芯片。
就在5月16日，美国商务部又开始刁难我们了：任何出口给华为的产品、卖给华为的技术，只要使用了任何比例的美国企业的专业技术，就必须要向美国商务部申请并被批准才能出口。在美国技术通知统治制造业的芯片行业，这条新规相当于掐住了华为生产芯片的道路，台积电、联发科纷纷表示不会“特殊照顾”华为。因此给华为提供芯片，这个重任一定是由中国的芯片制造商扛起的。
要实现高端芯片自产，技术层面的短板真正是光刻机。光刻机是芯片或者说半导体工业中最至关重要、最难以制造的设备，堪称工业桂冠。目前世界上最大的光刻机制造商是荷兰的ASML，它垄断了80%的光刻机销售额，在定价和供给方面牢牢掌握了话语权。之前为华为代工的台积电，就使用着荷兰ASML的光刻机。
与欧美相比，我们的光刻机技术差距有多大？在精密程度上，ASML的第五代EUV极紫外光光刻机的制程，也就是光刻精度达到了5纳米和7纳米，相比之下中国光刻机的制程只能达到90纳米，技术差距有至少一代的代差。
ASML有如此的实力，离不开韩国、日本、美国等国的公司的入股和通力合作，离不开它几十年的技术积累，离不开几百家欧美日韩公司的零件供应和技术整合。这些因素的累加才成就了荷兰ASML的技术实力。
即便技术先进如美国，也无法以一己之力生产出来。ASML当然也拥有自家的真技术，但是更强大的是其技术整合能力和专利数量。一台ASML的光刻机，需要美国的Cymer公司的光刻机光源，需要德国的Zeiss也就是我们熟悉的蔡司的镜头……而这些公司都与ASML有稳定的合作关系。
而如今中国企业受到美国商务部“实体清单”和“新规”的阻挠，集合不了各种先进的部件和技术，现阶段是造不出能与ASML相媲美的光刻机的。就算是能制造14纳米制程芯片的中国代工企业，中芯国际，其高端设备也要从ASML进口，同样受到了美国的阻挠，拿不到ASML的7nm级EUV光刻机。
既然不好买，那我们可以造出来吗？中国目前最有能力追赶技术差距的企业，是上海微电子公司。用数字来衡量研发实力的话，这家公司有2500多项专利，占据国内市场八成份额。上海微电子还是全球四大光刻机制造商之一，但还威胁不到ASML的绝对领先优势。
上海微电子虽然在国内市场占据重要的供应地位，但是放眼全球，它还只是专注于中低端市场。它目前只能生产制程90纳米的光刻机，和前面提到的ASML的7纳米级别相比，难以望其项背。
落后就要追赶，我们的技术发展快吗？好消息是，上海微电子将在明年交付首台制程28纳米的光刻机，今年还将运用ArF光源，制造出11纳米的光刻机，这意味着我国的高科技公司在研发高精度光刻机的道路上，离ASML的差距又缩小了一步。
虽然我国在光刻机领域起步晚，而且在发展期受到了外部的阻拦，但还是孕育出上海微电子这样的企业。在被美国制裁的今天，这无疑会给缺少外援的华为带来新的希望。
