PECVD镀膜工艺优化

摘要：文章重点分析了管式PECVD镀膜均匀性的影响因素。通过改变PECVD镀膜过程中的腔体压力、镀膜前的恒温时间及金字塔绒面均匀性、石墨舟清洗配方等因素进行实验研究。结果显示，适当降低PECVD镀膜压力，增加镀膜前恒温时间、提升镀膜前硅片绒面均匀性、降低石墨舟表面粗糙度可以提升PECVD镀膜均匀性。

代同光，李拴，郭永刚，宋志成

西安太阳能电力有限公司

来源：通信电源技术