电子束光刻胶（SU-8 GM1010，HSQ，XR-1541-002/004/006，HSQ Fox-15/16，PMMA）
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。
光刻胶按应用领域分类，可分为 PCB 光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。
全球市场上不同种类光刻胶的市场结构较为均衡，具体占比可以如下图所示。
电子束光刻胶-SU-8 GM1010
电子束光刻胶-HSQ
电子束光刻胶-XR-1541-002/004/006
电子束光刻胶-HSQ Fox-15/16
电子束光刻胶-PMMA
产品 型号 光源 类型 分辨率 厚度（um) 适用范围
厚胶 Thick Resist SU-8 GM10xx系列 g/h/i-Line 负性 0.1um 0.1-200 具有较大的高宽比，透明度高，垂直度极好。
SU-8 Microchem g/h/i-Line 负性 0.5um 0.5-650 具有较大的高宽比，透明度高，垂直度极好。
SPR220 g/h/i-Line 正性 1um 1—30 可用于选择性电镀电镀，深硅刻蚀等工艺。
NR26-25000P g/h/i-Line 负性 20-130 厚度大，相对容易去胶。
电子束光刻胶 型号 光源 类型 分辨率 厚度（um) 适用范围
SU-8 GM1010 电子束 负性 100nm 0.1-0.2 可用于做高宽比较大的纳米结构。
HSQ 电子束 负性 6nm 30nm~180nm 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀。
XR-1541-002/004/006
HSQ Fox-15/16 电子束 负性 100nm 350nm~810nm 分辨率较好的光刻胶，抗刻蚀。
PMMA(国产) 电子束 正性 \ \ 高分辨率，适用于各种电子束光刻工艺，较常用的电子束光刻正胶。
PMMA（进口） 电子束 正性 \ \ MicroChem，各种分子量，适用于各种电子束光刻工艺，较常用的电子束光刻正胶。
薄胶 型号 光源 类型 分辨率 厚度（um) 适用范围
S18xx系列 g-Line 正性 0.5um 0.4-3.5 较常用的薄光刻胶，分辨率高，稳定可靠。
SPR955系列 i-Line 正性 0.35um 0.7-1.6 进口高分辨率（0.35um）光刻胶，稳定可靠。
BCI-3511 i-Line 正性 0.35um 0.5-2 国产0.35um光刻胶，已经在量产单位规模使用。
NRD6015 248nm 负性 0.2um 0.7-1.3 国产深紫外光刻胶，已经在量产单位规模使用。
Lift off光刻胶 型号 光源 类型 分辨率 厚度（μm) 适用范围
KXN5735-LO g/h/i-Line 负性 4μm 2.2-5.2 负性光刻胶;倒角65-80°，使用普通正胶显影液显影。
LOL2000/3000 g/h/i-Line / NA 130nm-300nm 非感光性树脂，可以被显影液溶解，作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。
ROL-7133 g/h/i-Line / 4um 2.8-4 负性光刻胶，倒角75~80°，使用普通正胶显影液。
光刻胶配套试剂 品名 主要成分 包装 应用 / /
正胶显影液 TMAH 2.38% 4LR/PC 正胶显影液 / /
正胶稀释剂 PGMEA 4LR/PC 稀释剂 / /
SU8 显影液 PGMEA 4L/PC 显影SU8光刻胶 / /
RD-HMDS HMDS 500ml/PC 增粘剂 / /
OMNICOAT 见MSDS 500ml/PC SU-8增粘剂 / /
wyf 01.22
